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2025-03-25

半導体エッチング産業用オイルフリーエアコンプレッサーの選び方

半導体エッチング産業の背景

半導体ウェハエッチングプロセスでは、圧縮空気は以下のような側面に広く使用されます。

  1. 真空サクションカップの駆動;
  2. 反応室圧力の制御;
  3. レジスト残りの洗浄

半導体プロセスには高精度が要求されるため、圧縮空気はウェーハ表面の汚染を避けるために非常に高い清浄度基準を満たす必要があります。満たす必要のある要件は次のとおりです。

  • ISO 857 3 -1クラス0(油分含有量≤ 0.0 1 mg/m3)潤滑油の揮発性汚染を防止するため;
  • SEMI F 5(クリーン圧縮空気ガイドライン)、粒子径0.0 1 μm以下(ISO 1464 4 -1クラス1規格に準拠);
  • IEC 6134 0 -5-1(静電保護規格)圧縮空気は、導電率≥1μS/cmの帯電防止処理を行う必要があります。

SEMI 2023 Industry Reportによると、油性圧縮空気は、ウェハの廃棄率を0.3 ~ 0.8%増加させ、1回の汚染損失は最大50万ドルに達する可能性があります。

半導体エッチングにオイルフリーエアコンプレッサーが必要な理由

  1. 完全な清潔保証オイルフリー技術は、潤滑油の割れによって発生する0.1-0.5μmの炭化物粒子を除去し、SEMI E 78清浄度仕様違反を回避し、ウェハラインの短絡を防止します。
  2. 静電気制御水系潤滑システムは、電気伝導性(抵抗率≤10 Ω·cm、ANSI/ESD S 20.20認証)を備えており、ナノスケールトランジスタの静電気放電(ESD)損傷を回避することができます。
  3. プロセスの安定性圧力変動は± 0.2%以下(SEMI E 109動的圧力制御規格に準拠)に保たれ、エッチング速度の均一性と誤差0.5%未満を保証します。

半導体エッチングコアパラメータの選択(国際規格付き)

  1. 清潔度の制御
    • 油分含有量≤ 0.0 01 mg/m3(ISO 85 7 3 -1クラス0に準拠)
    • 粒子状物質は0.0 0 3 μm以下(ISO 29463高効率フィルタ試験に合格);
  2. 帯電防止性能
    • 空気の伝導度:1-10μS/cm(SEMI F 47ファブ静電気保護規格に準拠);
    • 表面抵抗体:≤10 Ω(ASTM D 257材料の導電性試験に合格);
  3. 供給圧力の安定性
    • 圧力の変動± 0.15%以下(ISO 1217附属書D動的圧力試験に適合)。
    • 瞬時流量応答時間0.1秒以下(VDMA 15392産業用圧縮空気性能認証)。

工業用オイルフリーエアコンプレッサーを使用しない半導体エッチングの潜在的リスク

  1. 製品廃棄のリスクウェハ表面への潤滑油の蒸着により、エッチンライン幅誤差が5nm以上になり、SEMI M 82のプロセス許容差上限を超え、廃棄リスクが高まります。
  2. 設備保守コストの急増オイルオイルシステムは、毎月の反応チャンバーの洗浄(約$12,000/回)が必要で、真空ポンプの寿命が40%短縮されます(SEMI S 2機器の信頼性仕様に違反)。
  3. コンプライアンス·罰則ITRS 2.0技術ロードマップの清浄度要件を満たさないと、ファウンドリの資格が取り消されるリスクがあります。

工業用オイルフリーエアコンプレッサーの使用による経済的利益

プロジェクトプロジェクト 工業用オイルフリーエアコンプレッサー オイルエアコンプレッサー付き
初期投資額 35万ドル。 25万ドル
3年間の総費用(運用費用を含む) 42万ドル以下 60万ドル以上
ウエハ廃棄コスト 0 四半期ごとに150万ドル以上
炭素排出量(年間) $0 ISO 14064準拠 $25,000以上(炭素税+廃油処理)

半導体エッチングにおける工業用オイルフリーエアコンプレッサーとオイルフリーエアコンプレッサーの応用比較

指標は 工業用オイルフリーエアコンプレッサー オイルエアコンプレッサー付き
清浄度のレベル ISO 857 3 -1クラス0 ISO 85 7 3 -1クラス1
静電制御能力 SEMI F 47に準拠 イオン化装置が必要
人件費の保守 0.2人/年 1.8人/年
プロセスの安定性 99.98%の収益率 99.5%未満の収益性

まとめまとめまとめ

オイルフリーエアコンプレッサーは、ゼロオイル汚染、ナノスケールの清浄度、全自動帯電防止制御により、歩留まりと機器寿命を確保するための半導体エッチングプロセスの重要な機器となっています。上海グランクリングループ(Granklin)の工業用オイルフリー圧縮技術はISO 857 3 -1 Class 0およびSEMI F 5規格に準拠しており、世界の半導体企業に3nmプロセスのニーズを満たす圧縮空気ソリューションを提供しています。

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